箝制中國半導體，荷蘭再限制兩款 DUV 出口

荷蘭政府今日公告，荷蘭政府以國家安全名義，擴大要求半導體設備製造設備商艾斯摩爾（ASML）兩款深紫外線曝光機（DUV）出口，須獲出口許可證。

彭博社報導，這套以國家安全名義實施的新規定 7 日生效。美國曾表示，有權監管這些半導體製造設備，為限制中國晶片製造商獲取先進技術、減緩其技術和軍事進步的行動的一部分。如今，荷蘭的最新行動希望與美國制裁政策一致。

荷蘭貿易部長 Reinette Klever 表示，這是為了安全。由於技術發展，特定生產機器的出口有安全風險。荷蘭政府已限制 ASML 出口中國先進設備。最新規定將影響另兩種工具：TWINSCAN NXT: 1970i 和 1980i 兩種 DUV 系統。

ASML 發言人莫爾斯說，這是技術性調整，不至於影響 2024 年財務展望，或 2022 年 11 月投資人日允諾的長期目標。

(首圖來源：ASML)